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浙江大学20项专利转让

专利

转让

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当前价格:¥553 万

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编号:ZJIPX20200036GP

所属:浙江大学

挂牌开始时间:2020/05/08 17:22

挂牌截止时间:2020/05/20 17:22

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项目介绍:

本批次共20件发明专利均属于浸没式光刻机浸液分系统技术领域。光刻机是集成电路制造过程中完成曝光工序的关键设备,浸没式光刻机是基于干式光刻机发展而来的先进光刻机类型。

浸没式光刻与传统干式光刻的主要差异是在投影物镜与硅片之间填充了高折射率的浸没液体,光刻工艺对浸没液体的控制提出了很高的技术要求,由此面临着一系重大问题。首先,曝光成像质量严重依赖于浸没液体的均一性,这需要确保供液高度的洁净稳定,并消除输送系统中的二次污染,因此必须研制高性能的浸没液体输送及控制系统。第二,物镜与硅片之间有一定间隙,硅片的高速运动极易引发浸没液体的泄漏并带来系列难题,因此必须解决浸液单元的动态密封问题。第三,硅片高速非定常运动引起的液体速度和压力波动,将影响物镜和硅片的可靠工作、干扰浸没液体的稳定更新并引发振动,因此必须解决浸没流场的稳定性控制问题。第四,浸液控制系统是光刻机中一个全新的分系统,如何实现分系统与主机的总体协调控制,解决物镜与浸液单元的非接触连接,以及和双承片台系统的系统等集成技术,也是本技术需要探索的问题。

浸没光刻机主要包括光源分系统、照明分系统、投影物镜分系统、工件台分系统、浸没分系统、环控分系统以及外围支撑模块等分系统及模块,其中浸没分系统是制备、输送及回收投影物镜与硅片之间的浸没液体的分系统。浸没分系统包括浸液供给、气体供给、浸没头、气液回收以及测控等5个技术模块,本次拟转化的科技成果涉及浸没分系统的浸液供给、浸没头和测控等3个技术模块;涉及浸液供给参数调控、浸没流场组织、垂直注液、气液共同回收、气刀、浸没头抑振、浸没头控温、流场状态测量等8个技术点。

项目构成

a:20:{i:0;s:80:"用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置/ZL201210172953.7";i:1;s:80:"用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置/ZL201210403386.1";i:2;s:68:"用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置/ZL201210403590.3";i:3;s:74:"用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置/ZL201210449140.8";i:4;s:62:"非接触式流体元器件振动检测装置/ZL201210547449.0";i:5;s:80:"用于浸没式光刻机的气密封和气液减振回收装置/ZL201310070625.0";i:6;s:92:"浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法/ZL201310186950.3";i:7;s:87:"用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置/ ZL201310205734.9";i:8;s:71:"流场状态可控的泡状流流道振动检测装置/ZL201310371045.5";i:9;s:62:"一种平行板间液桥分离的观测装置/ZL201410082357.9";i:10;s:93:"浸没式光刻机中浸液传送系统的控制时序的模型匹配方法/ ZL201410110134.9";i:11;s:74:"用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置/ZL201410172815.8";i:12;s:92:"一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置/ZL201410285425.1";i:13;s:90:"浸没式光刻机流体控制系统的模块化工作流程控制方法/ ZL201410361764.3";i:14;s:71:"基于亲疏水交替表面的浸没流场密封装置/ZL201410818565.0";i:15;s:77:"基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法/ZL201410817054.7";i:16;s:68:"一种用于浸没式光刻机的气液隔离装置/ZL201510020186.1";i:17;s:80:"一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置/ZL201510423584.8";i:18;s:95:"一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置/ZL201510479159.0";i:19;s:89:"浸没式光刻兼容温控的分流控制和压力跟随装置及方法/ZL201510924221.2";}

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